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sabrina.chen
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+86 15836043611
Alta pureza 99,95% de tungstênio Sputtering Target Sandblasting
| Lugar de origem | China |
|---|---|
| Marca | Hypersolid Metal |
| Quantidade de ordem mínima | Negociar |
| Preço | Negitionable |
| Detalhes da embalagem | caixas padrão de exportação |
| Tempo de entrega | 30 dias após receber o pagamento inicial |
| Termos de pagamento | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram |
| Habilidade da fonte | 10000sets/month |
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xDetalhes do produto
| Número atômico | 74 | Peso atômico | 183.84 |
|---|---|---|---|
| Ponto de ebulição | 5927°c | Electronegativity | 2.36 |
| Materiais | TUNGSTÊNIO | Ponto de fusão | 3410°c |
| Estado de oxidação | 6, 5, 4, 3, 2, 0, -1, -2, -3, -4, -5, -6 | Tratamento de superfície | Polonês, limpar com jato de areia, anodizar, etc. |
| Realçar | Alvo de pulverização de tungsténio de alta pureza,Alvo de pulverização de tungsténio para a pulverização de areia,990 |
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Descrição de produto
1,Descrição:
Material: Os materiais alvo de tungstênio são tipicamente fabricados a partir de tungstênio de alta pureza ou ligas de tungstênio, especificamente concebidos para uso em processos de deposição física de vapor (PVD).
Alto ponto de fusão: o tungstênio tem um ponto de fusão excepcionalmente elevado de aproximadamente 3.422 graus Celsius (6.191 graus Fahrenheit),que permitam resistir às altas temperaturas geradas durante os processos PVD.
Densidade: Os materiais alvo de tungstênio têm uma alta densidade, normalmente variando de 17,8 a 19,3 gramas por centímetro cúbico (g/cm3), garantindo uma alta taxa de deposição e uma utilização eficiente do material.
2,Especificações:
| Materiais | Outros, de aço inoxidável |
| Ponto de fusão | Aproximadamente 3.422 graus Celsius (6.191 graus Fahrenheit) |
| Densidade | 17.8 - 19,3 g/cm3 (g/cm3) |
| Conductividade térmica | Excelente condutividade térmica |
| Taxa de pulverização | Relativamente baixa taxa de pulverização, perda mínima de material |
| Purificação | Altos níveis de pureza, impurezas mínimas |
| Uniformidade | Dimensões precisas e uniformidade para uma deposição de filme consistente |
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