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Alta pureza 99,97% de tungstênio Meta Condição da superfície do solo para revestimento de pulverização
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xDetalhes do produto
| Nome | Alvo de tungsténio | Forma | Rondas |
|---|---|---|---|
| Materiais | TUNGSTÊNIO | Composição química | 99,97% |
| Circunstância de superfície | lathed, à terra, lustrando ou lustro do espelho | Aplicação | Revestimento por pulverização |
| Realçar | Meta de tungstênio moído,Meta de tungstênio de revestimento por pulverização |
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Descrição de produto
Meta de tungstênio de alta pureza 99,97% para revestimento por pulverização
Introdução
1O alvo de pulverização de tungstênio adota as melhores técnicas demonstradas, incluindo fluorescência de raios-X (XRF), espectrometria de massa de descarga de brilho (GDMS) e plasma acoplado indutivamente (ICP);
2O alvo de tungstênio do Achemetal é fornecido com alta pureza de até 99,97%, densidade de 18,8-19 g/cm3, estrutura de organização homogênea e grão fino;
3Nosso alvo de pulverização de tungstênio foi aprovado pela ASTM B 760-2007 e GB 3875-2006.
Parâmetro
|
OD ((mm) |
ID ((mm) |
Duração ((mm) |
Feito sob medida |
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140 a 300 |
120 a 280 |
100-3300 |
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Número do modelo |
W1 |
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Forma |
personalizado |
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Composição química |
990,95% W |
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Características
1. Alta densidade
2. Alta resistência ao desgaste
3. Alta condutividade térmica com baixo coeficiente de expansão térmica
Especificações
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Número atómico |
74 |
|
Número CAS |
7440-33-7 |
|
Massa atómica |
1830,84 [g/mol] |
|
Ponto de fusão |
3420 °C |
|
Ponto de ebulição |
5555 °C |
|
Densidade a 20 °C |
19.25 [g/cm3] |
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Estrutura cristalina |
Cubo centrado no corpo |
|
Coeficiente de expansão térmica linear a 20 °C |
4.410-6[m/mK] |
|
Conductividade térmica a 20 °C |
164 [W/mK] |
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Calor específico a 20 °C |
0.13 [J/gK] |
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Conductividade elétrica a 20 °C |
18.2106[S/m] |
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Resistência elétrica específica a 20 °C |
0.055 [(mm2)/m] |
Aplicações
semicondutores
deposição química de vapor (CVD)
Display de deposição física de vapor (PVD)
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